PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機

簡要描述：PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機/等離子體表面處理系統(tǒng)是一款功能強大的桌面型表面等離子體設備，非常適合于高校、科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)，需要低成本運作且高效處理的企業(yè)。它具備等離子設備幾乎所有的功能，具有較大的腔體尺寸和靈活的電極配置方式。

產(chǎn)品分類

Product classification

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詳細介紹

品牌	PLUTOVAC	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應用領域	生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,制藥/生物制藥,綜合

　　PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機特點：

　　1. 桌面型，性能穩(wěn)定、操作簡便、使用成本極低、易于維護，高性價比。

　　2.小身材，有效處理面積大，可以輕松處理8寸硅片去膠等應用，最大可以處理203mm*203mm樣品。

　　3.采用氣浴電極，清洗效率高。

　　4.靈活的電極配置方案，最多可以處理2片8寸硅片

　　5.對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。

PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機參數(shù)：

　　1. 真空腔規(guī)格: 材質6061-T6鋁合金 240mm*300mm*200mm

　　2. 電極：平板氣浴電極，材質6061-T6鋁合金

　　3. 電極尺寸：205mm *205mm

　　4. 頻率：13.56MHz (可選配40KHz射頻等離子源)

　　5. 功率：0-500W連續(xù)可調(diào)，精度1W,可在設備運行中隨時調(diào)整參數(shù)

　　6. 氣體控制：針式氣體流量閥， 60-600ml 2路氣體

　　7. 真空計：電偶式真空計，精度：0.01mTor

　　8. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏，全手動控制和全自動控制兩種控制方式

　　控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)

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